Реферат: Определение параметров p-n перехода
«МАТИ»-РГТУ
им. К. Э. Циолковского
тема: «Определение параметров p-n перехода»
Кафедра: "Xxxxxxxxxx xxxxxxxxxx
xxxxxxxxxxxxxxxx"
Курсовая работа
| студент Хxxxxxxx X. X. группа XX-X-XX |
|
дата сдачи |
|
оценка |
г. Москва 2001 год
Оглавление:
| 1. Исходные данные |
3 |
|
| 2. Анализ исходных данных |
3 |
|
|
3. Расчет физических параметров p- и n- областей |
3 |
|
| а) эффективные плотности состояний для зоны проводимости и валентной зоны | 3 | |
| б) собственная концентрация | 3 | |
| в) положение уровня Ферми | 3 | |
| г) концентрации основных и неосновных носителей заряда | 4 | |
| д) удельные электропроводности p- и n- областей | 4 | |
| е) коэффициенты диффузий электронов и дырок | 4 | |
| ж) диффузионные длины электронов и дырок | 4 | |
|
4. Расчет параметров p-n перехода |
4 |
|
| a) величина равновесного потенциального барьера | 4 | |
| б) контактная разность потенциалов | 4 | |
| в) ширина ОПЗ | 5 | |
| г) барьерная ёмкость при нулевом смещении | 5 | |
| д) тепловой обратный ток перехода | 5 | |
| е) график ВФХ | 5 | |
| ж) график ВАХ | 6, 7 | |
| 5. Вывод |
7 |
|
| 6. Литература |
8 |
|
1. Исходные данные |
|||||||
|
1) материал полупроводника – GaAs 2) тип p-n переход – резкий и несимметричный 3) тепловой обратный ток ( 4) барьерная ёмкость ( 5) площадь поперечного сечения ( S ) – 1 мм2
|
|||||||
|
|||||||
|
Ширина запрещенной зоны, эВ |
Подвижность при 300К, м2/В×с |
Эффективная масса |
Время жизни носителей заряда, с |
Относительная диэлектрическая проницаемость | ||
|
электронов | Дырок |
электрона mn/me |
дырки mp/me |
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
1,42-8 |
0,85-8 |
0,04-8 |
0,067-8 |
0,082-8 |
10-8 |
13,1-8 |
|
|
||||||
|
2. Анализ исходных данных |
|||||||
|
1. Материал легирующих примесей: а) S (сера) элемент VIA группы (не Me) б) Pb (свинец) элемент IVA группы (Me) 2. Концентрации легирующих примесей: Nа=1017м -3, Nд=1019м -3 3. Температура (T) постоянна и равна 300К (вся примесь уже ионизирована) 4. 5. 6. 7. |
|||||||
|
8. |
|||||||
|
3. Расчет физических параметров p- и n- областей |
|||||||
|
а) эффективные плотности состояний для зоны проводимости и валентной зоны
б) собственная концентрация
в) положение уровня Ферми
|
|||||||
|
|
|
||||||||||||||||||||||||
| (рис. 1) | (рис. 2) | ||||||||||||||||||||||||
| г) концентрации основных и неосновных носителей заряда | |||||||||||||||||||||||||
|
|
|
||||||||||||||||||||||||
|
д) удельные электропроводности p- и n- областей
|
|||||||||||||||||||||||||
|
е) коэффициенты диффузий электронов и дырок
|
|||||||||||||||||||||||||
|
ж) диффузионные длины электронов и дырок
|
|||||||||||||||||||||||||
|
4. Расчет параметров p-n перехода |
|||||||||||||||||||||||||
|
a) величина равновесного потенциального барьера
б) контактная разность потенциалов
|
|
в) ширина ОПЗ (переход несимметричный |
||
|
г) барьерная ёмкость при нулевом смещении
д) тепловой обратный ток перехода
|
||
|
|
||
| – общий вид функции для построения ВФХ | ||
|
ж) график ВАХ
|
||
|
|
– общий вид функции для построения ВАХ | |
|
Ветвь обратного теплового тока (масштаб) |
||
|
Ветвь прямого тока (масштаб) |
|
|
Вывод. При заданных параметрах полупроводника полученные значения удовлетворяют физическим процессам: - величина
равновесного потенциального барьера ( |
||
|
|
||
|
-
барьерная емкость при нулевом смещении ( |
||
|
- значение
обратного теплового тока ( |
||
|
Литература: 1. Шадский В. А. Конспект лекций «Физические основы микроэлектроники» 2. Шадский В. А Методические указания к курсовой работе по курсу «ФОМ». Москва, 1996 г. 3. Епифанов Г. И. Физические основы микроэлектроники. Москва, «Советское радио», 1971 г. |
||


(рис. 1)
(рис. 2)




е) график ВФХ 


